中新社香港三月二十日電 臺北消息：臺灣“經(jīng)濟(jì)部投審會”委員會議二十日，通過臺灣積體電路制造股份有限公司申請將其上海廠晶圓制程技術(shù)提升為零點(diǎn)一八微米以上申請案。這是臺灣方面去年底開放零點(diǎn)一八微米晶圓制程登陸后首宗獲準(zhǔn)投資案。

　　“中央社”報道，臺灣有關(guān)方面去年底宣布開放零點(diǎn)一八微米晶圓制程赴大陸投資，唯一獲準(zhǔn)在大陸投資設(shè)立八吋、零點(diǎn)二五微米晶圓廠的臺積電率先提出提升制程申請。

　　臺積電早于二00五年一月即向當(dāng)局提出赴大陸投資零點(diǎn)一八微米制程申請，當(dāng)局直至去年底政策才正式松綁。臺積電遂補(bǔ)件申請。

　　二十日，臺積電上海有限公司產(chǎn)銷積體電路產(chǎn)品制程技術(shù)，由零點(diǎn)一八微米以上修正放寬至零點(diǎn)一八微米以上申請案順利獲通過。

　　另外，臺灣茂德科技公司也已遞案申請相同制程晶圓廠登陸，尚待審議。

　　對于有關(guān)投資案獲通過，臺積電方面表示歡迎，并指出在正式接獲當(dāng)局核準(zhǔn)函后，公司將盡快展開大陸廠零點(diǎn)一八微米制程建置。稱這將有利于在大陸地區(qū)提供符合客戶需求的制造服務(wù)，應(yīng)有助于爭取更多訂單，擴(kuò)大公司在大陸的市占率。